微弧氧化技術實質上是一種高壓的陽極氧化,至今是鎂合金表面處理效果最好的氧化技術。微弧氧化工藝是在適當的脈沖電參數和電解液條件下,使陽極表面產生微區等離子弧光放電現象,陽極上原有的氧化物瞬間熔化,同時又受電解液冷卻作用,進而在金屬表面原位生長出陶瓷質氧化膜的過程。

        與普通陽極氧化膜相比,這種膜的空隙率大大降低,從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。。鎂合金微弧氧化技術所形成的氧化膜主要由MgO和MgAl2O4尖晶石相組成,總膜厚可達100Lm以上,具有明顯的三層結構:外部的疏松層、中間的致密層和內部的結合層。但其受自身電解工藝影響，無法避免形成多孔膜層，膜層的多孔性為腐蝕過程電解質溶液的滲透提供通道，使腐蝕加劇，耗能大成本高，工藝時間長。

        微弧氧化技術雖說是目前鎂合金表面處理效果最好的技術，還不能完全解決鎂合金腐蝕痛點，因此，從技術的角度加強鎂合金表面處理技術的發展、深入研究保護膜形成的機理，可進一步改善表面防護膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點，在行業應用領域上對推進鎂合金材料在航空航天、交通領域與電子工業等領域的應用具有十分重要的現實意義和經濟效益。

        鎂合金復合氧化技術，是華清高科針對鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問題研發出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優化了這些問題，復合氧化技術是繼化學鍍、轉化膜涂層、陽極氧化、有機物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發的最新技術。

        通過復合氧化技術對鎂合金的處理形成的膜層與普通的陽極氧化膜、微弧氧化膜層相比,空隙小,空隙率低,與基質結合緊密,且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。鎂合金復合氧化技術生成的膜層綜合性能優良,與鎂合金結合牢固,且工藝簡單,對環境污染小, 所得膜層均勻、質硬，可以起到長期的保護作用,鎂合金裸膜狀態下鹽霧時間可達200小時，目前對其生長規律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究。華清高科復合氧化技術在工業上得到了一定的應用,是一種具有發展潛力的鎂合金表面處理技術。

        復合氧化技術處理能力強，可通過改變工藝參數獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調節膜層厚度使鎂合金表面具有某種特性或呈現不同顏色；還可采用不同的電解液對同一工件進行多次復合氧化處理，以獲取具有多層不同性質的陶瓷氧化膜層。復合氧化技術雖尚未投入大規模生產，但已引起人們的普遍關注，在許多工業領域有廣闊的應用前景，是鎂合金表面處理技術發展的一個重要突破。

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